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一般的高真空高压离子镀会导致加工物表面粗糙、加工物温度上升，因而影响镀层的性质，而ＨＣＤ法则没有以上这些缺点，极适合于工业应用。研究ＨＣＤ法在低温２４０℃下，于ＳＫＨ５１热作工具钢上被覆Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）陶瓷梯度镀层，改变反应气体的组成百分比（Ｃ２Ｈ２：Ｎ２），来探讨其所形成镀膜的特性。
HCD法离子镀梯度镀层组成的研究
【摘 要】
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一般的高真空高压离子镀会导致加工物表面粗糙、加工物温度上升，因而影响镀层的性质，而ＨＣＤ法则没有以上这些缺点，极适合于工业应用。研究ＨＣＤ法在低温２４０℃下，于ＳＫＨ５１热作工具钢上被覆Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）陶瓷梯度镀
【机 构】
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台湾成功大学材料科学与工程系
【出 处】
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中国表面工程
【发表日期】
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2000年3期
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