【摘 要】
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提出了一种利用X射线应力分析技术和应变电测法测量附着膜的等效应力--等效单轴应变、屈服强度和加工硬化指数的方法.利用该方法测得一种厚度为2.5μm的TiN膜的条屈服点σ0.1
【机 构】
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中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室
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提出了一种利用X射线应力分析技术和应变电测法测量附着膜的等效应力--等效单轴应变、屈服强度和加工硬化指数的方法.利用该方法测得一种厚度为2.5μm的TiN膜的条屈服点σ0.1和σ0.2分别等于4.2GPa和4.4GPa,加工硬化指数n为0.36;对于一种厚度为2.4μm的铜膜,得到σ0.1=328MPa,σ0.2=415MPa,n=0.62.利用无应变剥层技术逐层剥离薄膜,同时测量基片曲率半径的变化,由此测得了一种厚度为2.3μm的TiN膜的残余应力沿层深分布.用新建立的一种利用X射线应力分析法测量薄膜泊
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