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给出了一种单次曝光制作多维θ调制全息物片的新方法。该方法采用4F光学系统和空间滤波技术，用单色平行光垂直照射4F光学系统物平面上的θ调制物片样品，在频谱面上放置只允许±1级频谱通过的滤波器，每一种排列方向的±1级频谱在像平面上形成与该种频谱对应的θ调制物片样品区域的像，且在成像区域形成该±1级频谱的干涉条纹。用记录介质对各种排列方向的±1级频谱形成的像的组合及各成象区域中的干涉条纹一次性曝光进行线性记录，制作出θ调制全息物片。