基于ULVI技术的PVDF隔膜显微结构表征研究

来源 :材料科学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:baimn1990
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PVDF隔膜为绝缘高分子材料,在扫描电镜观察时易产生放电问题,降低了成像图片的分辨率与清晰度,使得到的电子图像不能反映样品表面的真实形貌。通过DSC图谱分析其热稳定性,采用低加速电压成像技术,对扫描电子显微镜的工作电压(Vacc)、工作电流(le)、工作距离(WD)、扫描方式及电子信号这5个参数进行优化调整,最终选择在工作电流为5 μA,工作电压为1.5 kv,工作距离为4.5 mm,扫描方式为快速扫描,采用背散射电子信号进行成像的工艺,利用这种分析工艺能更好的表征出PVDF复合隔膜表面微观形貌及断面微观
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