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高纯八甲基环四硅氧烷广泛应用于光通讯行业,更是集成电路等电子工业生产中不可缺少的基础和支撑材料之一。文章重点介绍了高纯八甲基环四硅氧烷(D4)的除杂提纯工艺,包括精馏法、络合精馏法、结晶-真空抽滤法、金属去除剂除杂法,分析了各个方法的优点及限制其广泛应用的制约因素,最后展望了高纯八甲基环四硅氧烷提纯除杂技术未来的发展方向。