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60年代后期,美国Bell实验室和IBM公司的华裔学者卓以和、张立纲首先提出,利用在超高真空中(10-9 10-11托)分子运动的喷射效应（自由程可达100厘米以上）来进行分子尺度超薄层材料外延生长,即今天人们称之为分子束外延或MBE（Molecular Beam Epitaxial）技术。MBE技术的成功,使得在各种基底材料上任意地生长出厚度为原子（或分子）尺度量级的