金及其合金镀层因其优异的物理化学性能,广泛应用于现代电子工业中,适用于制造对于电参数性能长期稳定性要求较高的零件。传统的氰化物镀金工艺,镀液具有良好的分散能力和覆盖能力、电流效率高、稳定性好,所得镀层的表面质量好。但是,传统的氰化物镀金工艺,因其选用氰化物为金的配合物,镀液毒性大,对操作工人的危害较大,同时不利于环保。因此,新型的无氰电镀工艺成为了当代电镀工作者的主要研究方向。本文通过对比研究无氰
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