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石墨炉原子吸收法测定高纯水中痕量硅的研究
石墨炉原子吸收法测定高纯水中痕量硅的研究
来源 :宇航材料工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fanjin001983
【摘 要】
:
本文叙述了一种用石墨炉原子吸收法测定高纯水中痕量硅的方法。方法是用难熔碳化物涂层石墨管和基体改进剂技术,采用恒温原子化方式,大大地降低了测定过程中硅与石墨基体形成难
【作 者】
:
宋晓年
刘义民
【机 构】
:
中国航天工业总公司771所
【出 处】
:
宇航材料工艺
【发表日期】
:
1995年2期
【关键词】
:
原子吸收法
痕量分析~[2605]
硅
水分析
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本文叙述了一种用石墨炉原子吸收法测定高纯水中痕量硅的方法。方法是用难熔碳化物涂层石墨管和基体改进剂技术,采用恒温原子化方式,大大地降低了测定过程中硅与石墨基体形成难熔碳化硅的机会和硅以氧化物形式的挥发损失,从而提高方法的灵敏度。
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