不同缓冲层对NiFe／FeMn双层膜交换耦合场的影响

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：huaduo4851

【摘要】

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采用磁控溅射方法制备了NiFe/FeMn双层膜,分别以Ta,Cu作为缓冲层,Ta作为保护层.实验发现,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换耦合场比以Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换

【作者】

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李明华于广华朱逢吾姜宏伟赖武彦

【机构】

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北京科技大学材料物理系,中国科学院物理研究所

【出处】

：

真空科学与技术

【发表日期】

：

2002年1期

【关键词】

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交换耦合场织构界面粗糙度界面偏聚 NiFe/FeMn双层膜磁控溅射镍铁合金铁锰合金 Exchange coupling field Texture

【基金项目】

：

国家自然科学基金

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采用磁控溅射方法制备了NiFe/FeMn双层膜,分别以Ta,Cu作为缓冲层,Ta作为保护层.实验发现,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换耦合场比以Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换耦合场大,而矫顽力却很小.本文分别从织构、界面粗糙度、界面偏聚等几方面对其中的原因进行了分析.除不同缓冲层引起的织构、界面粗糙度不同对交换耦合场有影响外,不同缓冲层引起的界面偏聚对交换耦合场也有影响.

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