【摘 要】
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在含不同缓蚀剂的 0.5 mol/L H2SO4的电解质溶液中, 用光电化学方法研究了氧化铁钝化膜的电子传递过程 ; 缓蚀剂的加入在金属表面形成的沉积膜是非光电化学活性的, 基本上对
【机 构】
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北京大学化学系,华中理工大学化学系
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在含不同缓蚀剂的 0.5 mol/L H2SO4的电解质溶液中, 用光电化学方法研究了氧化铁钝化膜的电子传递过程 ; 缓蚀剂的加入在金属表面形成的沉积膜是非光电化学活性的, 基本上对光电流的瞬态性质不造成影响 ; 在硫酸溶液中测得两个明显的光电流峰, 其禁带宽度值 =3.7 eV(对应 300 nm处的弱峰 ), =1.95 eV(380到 500 nm范围的强峰 ), 加入不同缓蚀剂后测得值略有减小 ; 测定电位阶跃下发生的电流瞬态引起电荷量的改变, 表明在恒定电位下延长钝化时间会减少膜中羟基和水的含量
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