【摘 要】
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基于电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)法研究了无机锗和有机锗在HCl介质中的氯化物发生情况。结果表明,有机锗(Ge-132)不形成氯化物,而无机锗在以浓HCl为载流,载气压力0.14
【机 构】
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上海市食品生产监督所,上海屹尧仪器科技发展有限公司,中国科学院长春应用化学研究所电分析国家重点实验室,中国科学院研究生院
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(Nos.20605021,20975099);“十一五”国家科技支撑计划项目(No.2009ZX09308-006-5)资助
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基于电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)法研究了无机锗和有机锗在HCl介质中的氯化物发生情况。结果表明,有机锗(Ge-132)不形成氯化物,而无机锗在以浓HCl为载流,载气压力0.14 MPa,样品溶液中HCl浓度为6 mol/L时能实现最佳的氯化物发生效率,由此建立了含锗保健品提取液中无机锗的选择性测定新方法。方法的线性范围为2~500 mg/L,线性相关系数为0.9997,检出限达到0.6 mg/L。10次平行测定10和100 mg/L无机锗标准溶液的RSD分别为4.9%和0.9%。样品加入两个浓度水平(10和100 mg/L)无机锗标准溶液的回收率为83%~97%,表明共存有机和无机基体组分不存在明显干扰。
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