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通过对快速Ni电刷镀层在不同温度处理后的正电子湮没Doppler展宽能谱线形参数和氢气含量的对比分析,辅之以X射线衍射、电子衍射、扫描电镜、透射电镜和金相等实验,认为快速Ni电刷镀层中含有极高密度的缺陷,且可以分为对氢敏感及对氢不敏感两种类型。由于快速Ni电刷镀层制备工艺的特殊性,正电子湮没参数在该种材料中反映不出氢质子的屏蔽行为。