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制备参数对类金刚石（DLC）薄膜的性能和结构有显著影响。利用中频脉冲非平衡磁控溅射新技术制备了DLC薄膜，采用Raman光谱、X射线光电子能谱仪、纳米压痕仪、光谱型椭偏仪研究了溅射电压对DLC薄膜微观结构、力学性能和光学性能的影响。结果表明：当溅射电压由550V增加到750V时，DLC薄膜中sp^3杂化碳含量随溅射电压的增加而增加，当溅射电压超过750V时，薄膜中sp^3杂化碳含量随溅射电压的增加而减少；DLC薄膜的纳米硬度、折射率均随溅射电压的增加先增加而后减小，溅射电压为750V时制备薄膜的纳米硬度及