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针对投影光刻的特点,研究了一种基于扫描反射镜调制和三角测量原理的调焦调平系统.该系统遵循向甫鲁（SC）成像条件,并通过检测投影光斑相对于探测狭缝的位移量衡量硅片面的离焦量.同时,利用扫描反射镜的光学载波调制,提高系统的抗干扰能力.实验结果表明：系统拥有纳米（nm）级的测量精度,且具有采样频率高、非接触、多光斑布局方便等特点.