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镍钛合金形状记忆薄膜的图形化技术曾是其实用化的主要障碍之一，现在一种工作性能优越的化学刻蚀液可以实现薄膜的高精度图形化，该刻蚀液常温工作， １－５微米／分之间一可得到满意的刻蚀线条，常规制作的光刻胶掩模在该刻蚀液中非常稳定。该刻蚀液用溅射态的形状记忆合金薄膜可得到与掩模图形完全一致的刻蚀结果，刻蚀线条光滑平直，刻蚀系数大于１．５。当用于热处理以后的薄膜时，刻蚀面有一定程度的粗糙化，只能用于刻蚀相对