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以Ni-Mn-Ga为主要代表的铁磁形状记忆合金（FSMAs）不但具有传统形状记忆合金受温度控制的热弹性形状记忆效应，而且具有受磁场控制的铁磁形状记忆效应。微机电系（MEMS）的应用要求Ni-Mn-Ga合金必须制备成薄膜的形式。对溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的制备工艺进行了回顾与总结，对薄膜的各种性能特征和影响因素进行了详细的叙述，最后介绍了溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的应用状况和应用趋势。