【摘 要】
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<正> 利用具有强氧化作用的硝酸和硫酸混合液,对常温、常压下的非晶硅氧化过程进行了初步研究,获得了预期的结果。1 实验方法以C-Si（单晶硅）为衬底的a-Si片作为实验样片。实验
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<正> 利用具有强氧化作用的硝酸和硫酸混合液,对常温、常压下的非晶硅氧化过程进行了初步研究,获得了预期的结果。1 实验方法以C-Si（单晶硅）为衬底的a-Si片作为实验样片。实验前,先用HF:NH4F:H20=3:6:10的SiO2腐蚀液清洗样片,以去除样片表面的自然氧化层。实验时,再将已清洗的样片放入盛装HNO3:H2SO4=2:l混合液的磨口瓶中,并密封加盖以防酸液挥发。更多还原
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<正> 众所周知,两个k-空间的积空间未必是k-空间,寻求积空间为k-空间的充要条件从六十年代起一直是中外拓扑学家关心的问题,到目前为止,这个问题尚未得到彻底解决.人们知道: