HfO_2 ,SiO_2 单层光学薄膜激光预处理机理研究

来源 :四川大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:zmc02302
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SiO2单层光学薄膜,经低于其破坏阈值的脉冲Nd3+∶YAG激光预处理后,薄膜的抗激光损伤阈值可达到未处理前的两倍或两倍以上[1,2],而对于HfO2单层光学薄膜脉冲Nd3+∶YAG激光预处理的效果却比SiO2薄膜有显著差异(图1所示).对于光学薄膜,激光预处理提高抗激光损 SiO2 single-layer optical thin film, the laser damage threshold of the film can reach twice or more than that of the untreated Nd3 +: YAG laser pre-treated by the pulsed Nd3 +: YAG laser below its damage threshold [1, 2] Layer optical thin film pulsed Nd3 +: YAG laser pretreatment effect than the SiO2 film was significantly different (Figure 1) .For the optical film, the laser pretreatment to improve anti-laser damage
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