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半绝缘多晶硅(SIPOS)是一种掺氧多晶硅,其电阻率一般在10~8～10~(10)Ω·cm范围。在半导体器件中,用它取代SiO_2作钝化膜具有良好的钝化作用。本文主要介绍SIPOS钝化技术在MOS集成电路上的应用。
半绝缘多晶硅在MOS集成电路上的应用
【摘 要】
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半绝缘多晶硅(SIPOS)是一种掺氧多晶硅,其电阻率一般在10~8～10~(10)Ω·cm范围。在半导体器件中,用它取代SiO_2作钝化膜具有良好的钝化作用。本文主要介绍SIPOS钝化技术在
【机 构】
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华东师范大学,上海无线电十四厂
【出 处】
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微电子学与计算机
【发表日期】
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1989年6期
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