钨硅酸光敏高分子膜的制备和光色性研究

来源 :河南大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:jackfbi
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用旋转涂布法制得了PVA -H4 SiW12 O4 0 体系的光敏膜 ,研究了膜对光的响应情况 ,发现体系对光的响应时间与体系内各成份的浓度无关 ,红外结果表明光色性的产生源于体系内PVA的 -OH基与钨硅酸阴离子中Oc的相互作用 ,其过程具有可逆性 . The photosensitive films of PVA-H4 SiW12 O4 0 system were prepared by spin coating method. The response of the film to light was studied. The results showed that the response time of the system to light was not related to the concentration of each component in the system. The infrared results showed that the photochromism From the interaction between -OH groups of PVA and OC in tungsten anions, the process is reversible.
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