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1、产品及其简介rnNMC508A等离子体硅刻蚀系统是适用于8英寸集成电路生产线,面向逻辑和存储等多种电路制造的先进电感耦合等离子体多反应室刻蚀系统.该系统采用了多项专利技术,具有CD(关键尺寸)控制均匀性高、刻蚀低损伤、高产能、低消耗及多腔室多种工艺集成等特点.
8英寸100纳米高密度等离子刻蚀机(NMC508A)
【摘 要】
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1、产品及其简介rnNMC508A等离子体硅刻蚀系统是适用于8英寸集成电路生产线,面向逻辑和存储等多种电路制造的先进电感耦合等离子体多反应室刻蚀系统.该系统采用了多项专利技
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2007年8期
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