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本文报道了采用四极谱计在制备ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜地ＰＣＶＤ系统中对ＳｉＨ４射频辉光放是进行在线的质谱研究。获得取了在不同电离电压下的ＳｉＨ４质谱和不同辉光放电功率下的ＳｉＨ４质谱。
SiH4辉光放电的质谱研究
【摘 要】
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本文报道了采用四极谱计在制备ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜地ＰＣＶＤ系统中对ＳｉＨ４射频辉光放是进行在线的质谱研究。获得取了在不同电离电压下的ＳｉＨ４质谱和不同辉光放电功率下的ＳｉＨ４质谱。
【机 构】
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汕头大学物理学系
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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1998年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金,广东省高教厅科研基金
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