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P-Well BiCMOS[B]技术能够实现双极型与CMOS元器件兼容的工艺。为了便于集成,采用双极型制程为基础,引入CMOS元器件工艺,在同一硅衬底上实现兼容的BiCMOS[B]工艺。描述BiCMOS[B]集成电路芯片结构设计,工艺与制造技术,采用该技术得到了芯片制程结构。
P-Well BiCMOS[B]芯片与制程剖面结构
【摘 要】
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P-Well BiCMOS[B]技术能够实现双极型与CMOS元器件兼容的工艺。为了便于集成,采用双极型制程为基础,引入CMOS元器件工艺,在同一硅衬底上实现兼容的BiCMOS[B]工艺。描述BiCMOS
【机 构】
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上海贝岭股份有限公司,中国航天电子技术研究院第七七一研究所
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2017年10期
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