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用双靶磁控溅射制备钨氧化钒薄膜。Ｘ射线电子谱对所沉积的薄膜进行了分析，发现掺Ｗ氧化钒薄膜的相结构比较复杂。通过特征峰标定了这些相。用面积灵敏度因子方法得到Ｗ掺杂量的结果。
双靶磁控溅射制备掺W氧化钒薄膜的研究
【摘 要】
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用双靶磁控溅射制备钨氧化钒薄膜。Ｘ射线电子谱对所沉积的薄膜进行了分析，发现掺Ｗ氧化钒薄膜的相结构比较复杂。通过特征峰标定了这些相。用面积灵敏度因子方法得到Ｗ掺杂量的结果
【机 构】
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兰州物理研究所!兰州７３００００,兰州大学物理系!兰州７３００００
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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1999年2期
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