【摘 要】
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研究了一种新的甲基磺酸镀锡工艺,利用极化曲线、扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）等检测方法分析了添加剂对电沉积过程和镀层微观形貌的影响,阐述了添加剂的作用机理。结果
【机 构】
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湖北工业大学化学与环境工程学院,武汉材料保护研究所,黄石理工学院化工与材料学院
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研究了一种新的甲基磺酸镀锡工艺,利用极化曲线、扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（XRD）等检测方法分析了添加剂对电沉积过程和镀层微观形貌的影响,阐述了添加剂的作用机理。结果表明：镀液的分散能力为58.98%,覆盖能力为100%;添加剂对锡的电沉积过程能够起到很好的阻化作用,有利于晶核形成,提高镀层质量;镀层在生长过程中以（211）和（112）晶面的择优取向协同生长。
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