【摘 要】
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利用磁控反应溅射法制备了不同Al含量的Ti1-xAlxN薄膜。采用能谱仪、X射线衍射仪及纳米显微力学探针分析了薄膜的成分、微结构及薄膜的硬度,研究了Al含量对薄膜的微结构、硬
【机 构】
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江苏科技大学材料科学与工程学院先进焊接技术重点实验室,
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利用磁控反应溅射法制备了不同Al含量的Ti1-xAlxN薄膜。采用能谱仪、X射线衍射仪及纳米显微力学探针分析了薄膜的成分、微结构及薄膜的硬度,研究了Al含量对薄膜的微结构、硬度及高温抗氧化性能的影响。结果表明,薄膜为面心立方结构,呈(111)择优取向;薄膜的硬度及抗氧化性能均随着Al含量增加而提高。
Ti1-xAlxN films with different Al contents were prepared by magnetron reactive sputtering. The composition, microstructure and hardness of the films were analyzed by energy dispersive spectrometer, X-ray diffraction and nano-mechanical probe. The effects of Al content on the microstructure, hardness and oxidation resistance of the films were investigated. The results show that the film has a face-centered cubic structure with a preferred orientation of (111). The hardness and oxidation resistance of the films increase with increasing Al content.
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