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在真空度１０＾－２Ｐａ以上的条件下对溅射ＦｅＳｉＡｌ膜进行了两小时真空退火热处理。发现样品的相结合并未因此而改变，但热处理过程中的晶粒长大和应力消除明显改善了溅射膜的软磁性能。
热处理对溅射FeSiAl膜结构及磁性的影响
【摘 要】
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在真空度１０＾－２Ｐａ以上的条件下对溅射ＦｅＳｉＡｌ膜进行了两小时真空退火热处理。发现样品的相结合并未因此而改变，但热处理过程中的晶粒长大和应力消除明显改善了溅射膜的软磁性能。
【机 构】
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兰州大学物理系
【出 处】
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磁性材料及器件
【发表日期】
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1997年2期
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