【摘 要】
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目的在金属钛表层制备以氮化钛(TiN)为主的氮化物膜层.方法在片状(25.0 mm×3.0 mm×0.5 mm)纯钛试样表层用辉光离子渗氮法制备了以TiN为主的氮化物膜层.利用X射线衍射(XRD)
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目的在金属钛表层制备以氮化钛(TiN)为主的氮化物膜层.方法在片状(25.0 mm×3.0 mm×0.5 mm)纯钛试样表层用辉光离子渗氮法制备了以TiN为主的氮化物膜层.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)分析表征了样品膜层的物相组成、膜层微观结构及膜层硬度.结果在820℃,600 Pa炉压下,通过辉光等离子渗氮4 h左右,可以在金属钛试样表面生成一层厚度约3 μm、均匀致密的金黄色氮化钛膜层,膜层主要由面心立方结构的TiN组成,膜层呈胞状结构生长,膜层硬度为24 GPa.结论采用辉光离子氮化处理工艺可以在金属钛表面制备连续、致密、无裂缝、表面相对光滑的TiN保护层.
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