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叙述了用光学反射法在线监测ＬＳＩ等离子及反应离子刻蚀过程和终点的监测原理与具体实施，所设计的仪器获得了优于８０Ａ的动态监测精度及小于０．３ｃｍ＾２的最小监测面积，比较了用光学反射法和等离子发射光谱法得到的监测结果，指出了影响光学反射法监测精度的因素，提出了切实可行的解决办法。
等离子与反应离子刻蚀终点的在线监测——光学反射法
【摘 要】
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叙述了用光学反射法在线监测ＬＳＩ等离子及反应离子刻蚀过程和终点的监测原理与具体实施，所设计的仪器获得了优于８０Ａ的动态监测精度及小于０．３ｃｍ＾２的最小监测面积，比较了用光学反射法和等离子发
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械研究所
【出 处】
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光学精密工程
【发表日期】
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1997年3期
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