【摘 要】
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采用电化学循环伏安法在单晶GaAs（001）衬底上外延沉积了Co-Ni二元合金薄膜.扫描电子显微镜观察结果显示,薄膜厚度约180nm,其表面由约40nm大小的颗粒组成.用X射线荧光法确定了薄
【机 构】
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中国科学技术大学国家同步辐射实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金（10274073,10505019）资助项目
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采用电化学循环伏安法在单晶GaAs（001）衬底上外延沉积了Co-Ni二元合金薄膜.扫描电子显微镜观察结果显示,薄膜厚度约180nm,其表面由约40nm大小的颗粒组成.用X射线荧光法确定了薄膜的组分为Co66Ni34,XRD确定了其为面心立方结构.用同步辐射圆偏振软X射线分别测量了样品中Co和Ni的吸收谱（XAS）,从而得到X射线磁性圆二色（XMCD）谱,通过加和定则分别计算出了合金中Co和Ni的轨道磁矩和自旋磁矩,与纯的Co和Ni样品相比,它们都有不同程度的增加.
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