论文部分内容阅读
研究了真空蒸镀制备的玻璃基底上的NiTi薄膜的特性,并进行了成分分析、X射线衍射分析、电阻经时变化及电阻-温度特性测定。结果表明:真空蒸镀所得的NiTi膜中Ti的物质的量分数比蒸发源镀材降低约0.07;基底温度低于350℃时,NiTi膜的电阻-温度曲线呈线性变化;采用镀后热处理,可使NiTi膜晶化,且出现R相变。同时,NiTi膜相变温度、相变量,电阻经时变化特性与基底温度及热处理工艺有关。