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覆Os膜扩散阴极Os-W互扩散的探讨
覆Os膜扩散阴极Os-W互扩散的探讨
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:star010lxl
【摘 要】
:
介绍了对覆锇扩散阴极锇膜与钨基间互扩散过程的研究结果。通过SEM对不同工作时间的阴极发射表面及纵向剖面的形貌进行分析,采用EDS对实验阴极的表面及纵向剖面进行元素成分
【作 者】
:
聂秋玲
程诚
【机 构】
:
北京真空电子技术研究所
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
2011年4期
【关键词】
:
阴极
Os膜
互扩散
Cathode
Os film
Diffusion
【基金项目】
:
SEM分析工作是在大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室李含雁工程师的帮助下完成.
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介绍了对覆锇扩散阴极锇膜与钨基间互扩散过程的研究结果。通过SEM对不同工作时间的阴极发射表面及纵向剖面的形貌进行分析,采用EDS对实验阴极的表面及纵向剖面进行元素成分的分析。研究表明,随工作时间的不同,阴极表面及纵向剖面Os-W浓度发生变化,呈现明显的扩散趋势。
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