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本文提出了适于２．４μｍ ＧａＩｎＡｓＳｂ台面结构探测器制备的ＨＦ／Ｈ２Ｏ２／Ｃ４Ｈ６Ｏ６／Ｈ２Ｏ腐蚀液体系，并确定了合适的成分配比。实验结果表明，该腐蚀液体系对ＧａＩｎＡｓＳｂ材料腐蚀速度适中、侧向腐蚀小、不破坏光刻胶保护、腐蚀面平整、腐蚀槽齐整、受外延片表面质量影响较小。
2.4μm GaInAsSb红外探测器台面腐蚀研究
【摘 要】
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本文提出了适于２．４μｍ ＧａＩｎＡｓＳｂ台面结构探测器制备的ＨＦ／Ｈ２Ｏ２／Ｃ４Ｈ６Ｏ６／Ｈ２Ｏ腐蚀液体系，并确定了合适的成分配比。实验结果表明，该腐蚀液体系对ＧａＩｎＡｓＳｂ材料腐蚀速度适中、侧向腐蚀小、不破坏光刻胶保护、腐蚀面平整、腐
【机 构】
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苏州大学物理系,中国科学院上海冶金研究所固体元器件与系统研究室
【出 处】
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微电子技术
【发表日期】
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2000年4期
【基金项目】
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国家863高技术研究发展计划!课题代号863－715－0152
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