调制周期对TaN/NbN纳米多层膜力学性能的影响

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本研究选择钽和铌的氮化物作为个体层材料,利用FJL560C12型超高真空射频磁控与离子柬联合溅射系统制备TaN、NbN及一系列的TaN/NbN多层薄膜。通过XRD和纳米力学测试系统以及摩擦磨损仪分析了该体系合成以后的晶体结构,以及调制周期对机械性能的影响。结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制周期为8.5nm时,TaN/NbN多层膜达到最大硬度30GPa,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、应力、弹性模量以及膜一基结合性能均达到最佳效果。
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