【摘 要】
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研究了化学气相沉积法 (CVD)制备得到的掺硼金刚石膜电极的物理性质和电化学性能 .用扫描电子显微镜 (SEM )法表征了金刚石膜的表面微观结构 ,采用循环伏安法和交流阻抗法研
【机 构】
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同济大学化学系,上海交通大学金属基复合材料国家实验室
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研究了化学气相沉积法 (CVD)制备得到的掺硼金刚石膜电极的物理性质和电化学性能 .用扫描电子显微镜 (SEM )法表征了金刚石膜的表面微观结构 ,采用循环伏安法和交流阻抗法研究了电极的电化学性质 .结果表明 ,金刚石薄膜表面形态为复晶结构 ,颗粒大小均匀 ,掺硼后使电极具有良好的导电性能 .金刚石膜电极具有很宽的电势窗口 ,在酸性、中性和碱性 3种介质中分别为 4 3V、4 0V和 3 0V .同时 ,金刚石膜电极的背景电流非常低 ,为 - 9× 1 0 -6～ 5× 1 0 -7A .在铁氰化钾电解液中 ,金刚石膜电极表面在反应过程中始终保持良好的活性 ,在表面进行的电化学反应具有良好的准可逆性 ,其电极动力学主要是受扩散过程所控制 .金刚石膜电极对有机污染物的催化氧化作用具有选择性 .与铂电极和石墨电极相比 ,金刚石膜电极对苯酚、硝基苯等芳香化合物的催化氧化强烈 ,氧化过程较为简单、彻底 .这些性质表明金刚石膜电极是一种非常适用于环保处理的新型电极
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