有机硅酸盐聚合体和含有该有机硅酸盐聚合体的绝缘膜

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本发明涉及一种形成用于半导体器件的低电介绝缘膜的组合物,特别涉及一种有机硅酸盐聚合体,所述的有机硅酸盐聚合体通过如下制备:混合在它的两个端用硅烷化合物封端的可热分解的有机硅烷化合物、普通硅烷化合物或者硅烷低聚物,然后加入水和催化剂以进行水解和缩合,而且本发明涉及 The present invention relates to a composition for forming a low dielectric insulating film for a semiconductor device, and more particularly to an organosilicate polymer prepared by mixing two or more End thermally decomposable organosilane compound terminated with a silane compound, a normal silane compound or a silane oligomer, and then adding water and a catalyst for hydrolysis and condensation, and the present invention relates to
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