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期刊论文
铜表面硫化膜形成及其电接触特性
铜表面硫化膜形成及其电接触特性
来源 :电子工艺技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:iqplll
【摘 要】
:
用库仑分析法测定了在湿热含H2O气氛中铜表面腐蚀膜层的厚度及其随腐蚀时间的变化,对不同H2S浓度的膜层变化曲线存在的差异进行了探讨。分析了膜层厚度变化对电接触性能的影响及其异
【作 者】
:
杨光
鲍春燕
【机 构】
:
北京邮电大学,太钢设计院
【出 处】
:
电子工艺技术
【发表日期】
:
1999年3期
【关键词】
:
铜腐蚀膜
库仑分析法
电接触
电子元器件
Copper corrosion filmCoulometryElectrical contact
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用库仑分析法测定了在湿热含H2O气氛中铜表面腐蚀膜层的厚度及其随腐蚀时间的变化,对不同H2S浓度的膜层变化曲线存在的差异进行了探讨。分析了膜层厚度变化对电接触性能的影响及其异常现蟓 。
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