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用同步辐射光源进行大规模集成电路和微器件光刻是现阶段的一项高新技术，本文介绍同步辐射光刻的镜扫描控制系统，它的设计思想，所采用的方法以及最优控制等都具有科技应用和经济价值。
集成电路光刻镜扫描控制系统
【摘 要】
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用同步辐射光源进行大规模集成电路和微器件光刻是现阶段的一项高新技术，本文介绍同步辐射光刻的镜扫描控制系统，它的设计思想，所采用的方法以及最优控制等都具有科技应用和经济
【机 构】
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中国科学技术大学电子科学与技术系
【出 处】
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光电子技术与信息
【发表日期】
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1999年6期
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