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概述了全球CMP设备市场和65nm技术节点CMP技术面临的挑战,给出了65nm技术节点铜工艺的解决方案及CMP后清洗技术。
65nm技术节点的CMP技术
【摘 要】
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概述了全球CMP设备市场和65nm技术节点CMP技术面临的挑战,给出了65nm技术节点铜工艺的解决方案及CMP后清洗技术。
【机 构】
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中国电子科技集团第45研究所 北京东燕郊101601
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2006年10期
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