【摘 要】
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为研究激基复合物器件激子复合区域的变化,在TPD/BPhen界面可形成激基复合物发光的基础上,以Ir（pq）2（acac）为探测层,制备器件ITO/Mo O3（2.5 nm）/TPD（（40-x）nm）/Ir（pq）2（acac）（0.5 nm）/TPD（x,x=
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为研究激基复合物器件激子复合区域的变化,在TPD/BPhen界面可形成激基复合物发光的基础上,以Ir（pq）2（acac）为探测层,制备器件ITO/Mo O3（2.5 nm）/TPD（（40-x）nm）/Ir（pq）2（acac）（0.5 nm）/TPD（x,x=0,3,6,10 nm）/BPhen（40 nm）/Cs2CO3/Al,其中靠近BPhen的TPD称之为间隔层。电致发光光谱表明,该组器件的激子复合区域主要位于Ir（pq）2（acac）薄层和TPD/BPhen界面,分别发射595 nm和478
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