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高密度等离子体工艺总体模型初探
高密度等离子体工艺总体模型初探
来源 :核聚变与等离子体物理 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shihaiquanhanhan
【摘 要】
:
介绍了与高密度等离子体工艺相关的模型和数值模拟方法,即连续流和动力学方法。在漂流-扩散方程的连续流模型和单元粒子/蒙特卡罗碰撞动力学模型的基础上,提出了一个等离子体工
【作 者】
:
杨银堂
李爱军
【机 构】
:
西安电子科技大学微电子所
【出 处】
:
核聚变与等离子体物理
【发表日期】
:
2001年1期
【关键词】
:
等离子体
数值模拟
等离子体工艺
连续流动力学
总体模型
等离子体源
Plasma
Modeling
Numerical simulation
【基金项目】
:
国防科技预研基金,教育部跨世纪优秀人才培养计划
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介绍了与高密度等离子体工艺相关的模型和数值模拟方法,即连续流和动力学方法。在漂流-扩散方程的连续流模型和单元粒子/蒙特卡罗碰撞动力学模型的基础上,提出了一个等离子体工艺模型。讨论了对等离子体鞘层、等离子体刻蚀和淀积过程的模拟方法,提出了一个高密度等离子体工艺总体模型的初步方案。
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