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研究了以ITO膜为掩膜的玻璃微芯片的制作方法和玻璃-玻璃键合技术,并详细讨论了腐蚀条件对掩膜的性能、玻璃的蚀刻速率和微通道表面形貌的影响.总结出了该制作方法与传统玻璃芯片的制作方法相比具有的特点和优势.开发出了一种成本低且简易的玻璃芯片制作方法.
一种玻璃微流控芯片的制作方法研究
【摘 要】
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研究了以ITO膜为掩膜的玻璃微芯片的制作方法和玻璃-玻璃键合技术,并详细讨论了腐蚀条件对掩膜的性能、玻璃的蚀刻速率和微通道表面形貌的影响.总结出了该制作方法与传统玻璃
【机 构】
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中国科学院理化技术研究所,中国科学院研究生院
【出 处】
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高等学校化学学报
【发表日期】
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2004年z1期
【基金项目】
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国家"八六三"计划项目(批准号:2001AA630503)和中国科学院"百人计划"资助.
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