超短激光脉冲与真空光电器件

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引言 1985年11月在西安召开第二次全国光电器件学术交流会议,会上我应邀对真空光电器件和光电阴极的研究问题谈了一些看法。目前国内有些人认为真空光电器件迟早会被半导体光电器件和CCD成象器件所代替,对真空光电器件的前途表示忧虑。本文不想从各个应用领域来谈论这个问题,而只从超短激光脉冲技术应用中来谈论此问题。结论应是明确的,真空光电 Introduction In November 1985, the Second National Symposium on Optoelectronic Devices was held in Xi’an. At the meeting, I was invited to talk about the research issues of vacuum optoelectronic devices and photocathodes. At present, some people think that the vacuum photoelectric devices will sooner or later be replaced by semiconductor optoelectronic devices and CCD imaging devices, expressing concerns about the future of vacuum optoelectronic devices. This article does not want to talk about this issue from a variety of applications, but only from the application of ultrashort laser pulse technology to talk about this issue. Conclusion should be clear, vacuum photoelectric
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