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热处理装置的洗净处理包括将反应室内加热到300℃的加热工序和去除附着在热处理装置内部的氮化硅的洗净工序。在洗净工序中，将含有氟气和氯气及氮气的清洗气体供给加热到300℃反应管内，去除氮化硅而洗净热处理装置的内部。
薄膜形成装置的洗净方法
【摘 要】
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热处理装置的洗净处理包括将反应室内加热到300℃的加热工序和去除附着在热处理装置内部的氮化硅的洗净工序。在洗净工序中，将含有氟气和氯气及氮气的清洗气体供给加热到300℃
【机 构】
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日本东京毅力科创株式会社
【出 处】
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表面技术
【发表日期】
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2008年2期
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