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光阴极保护技术是金属腐蚀与防护技术中的重要方法,半导体氧化物TiO2能够利用紫外光进行光催化反应,一直是材料研究的热点.半导体TiO2薄膜在光致阴极保护过程中可作为永久性防护涂层,TiO2薄膜或是通过掺杂方式改变Ti02的能级结构,可实现拓展光响应范围和抑制光生电子和空穴复合,以提高TiO2材料的光催化性能.综述了光致阴极保护技术的优越性,不同TiO2光致阴极保护薄膜在光致阴极保护技术领域的研究现状,提出了目前存在的问题及未来发展的方向.