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在450keV锥束工业CT成像系统中，对投影数据进行适当的散射校正是一步重要的数据校正。结合国内外散射校正方法研究的现状，对一种用散射校正板来进行散射校正方法的原理和实现进行了深入的研究。实验结果表明，这种校正方法能够对450KeV锥束CT成像系统进行有效地散射校正。
450keV锥束CT系统的散射校正研究
【摘 要】
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在450keV锥束工业CT成像系统中，对投影数据进行适当的散射校正是一步重要的数据校正。结合国内外散射校正方法研究的现状，对一种用散射校正板来进行散射校正方法的原理和实现进
【机 构】
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清华大学工程物理系
【出 处】
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核电子学与探测技术
【发表日期】
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2006年6期
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