【摘 要】
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用原子力显微镜(AFM),采用缓冲HF酸溶液(NH4F-buffered)腐蚀和氧气氛退火处理的SrTiO3(001)(STO)基片,获得了表面具有单原胞层高度台阶和原子尺度光滑表面的STO基片.对于优质
【机 构】
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中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,中国科学院物理研究所北京凝聚态物理国家实验室,中国科学院物理研
【出 处】
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中国科学G辑:物理学、力学、天文学
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用原子力显微镜(AFM),采用缓冲HF酸溶液(NH4F-buffered)腐蚀和氧气氛退火处理的SrTiO3(001)(STO)基片,获得了表面具有单原胞层高度台阶和原子尺度光滑表面的STO基片.对于优质单晶的STO基片,其表面为TiO2层,对于单晶质量差和有缺陷的STO基片,可观测到基片表面的缺陷和不均匀性.
The SrTiO3 (001) (STO) substrate with AFM, NH4F-buffered etching and oxygen annealing was used to obtain the SrTiO3 (001) (STO) STO substrate. For high quality monocrystalline STO substrates, the surface is a TiO2 layer, defects and inhomogeneities in the substrate surface are observed for poor quality and defective STO substrates.
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