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期刊论文
铜的气体表面渗硅新工艺研究
铜的气体表面渗硅新工艺研究
来源 :材料科学与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:s5df45sd6546f
【摘 要】
:
本文研究了纯铜的气体表面渗硅新工艺,也即在含硅气氛下低温沉积和扩散表面改性的工艺研究情况,介绍了各实验参数对渗硅层厚度和性能的影响。
【作 者】
:
甘正浩
毛志远
【机 构】
:
浙江大学
【出 处】
:
材料科学与工程
【发表日期】
:
1996年4期
【关键词】
:
气体表面渗硅
表面改性
气相沉积
扩散
铜合金
Surface gas siliconize
Surface modification
Vapor depo
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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本文研究了纯铜的气体表面渗硅新工艺,也即在含硅气氛下低温沉积和扩散表面改性的工艺研究情况,介绍了各实验参数对渗硅层厚度和性能的影响。
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