KLA-TENCOR将光刻叠对控制扩展到65nm节点以下

来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zszkcj

【摘要】

：

加利福尼亚州圣荷塞，2005年6月15日讯-KLA-Tencor于今日正式推出了业界最新的叠对计量解决方案，Archer AIM+系统，该系统专门用于满足芯片制造商对65nm节点以下的光刻叠对控制要

【出处】

：

电子工业专用设备

【发表日期】

：

2005年7期

【关键词】

：

节点光刻扩展加利福尼亚州测量不确定性 2005年解决方案控制要求加工平台 IM系统计量性能制造商 KLA

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

加利福尼亚州圣荷塞，2005年6月15日讯-KLA-Tencor于今日正式推出了业界最新的叠对计量解决方案，Archer AIM+系统，该系统专门用于满足芯片制造商对65nm节点以下的光刻叠对控制要求。Arther AIM+基于作为业界基准的Areher加工平台，与KLA—Teneor的上一代Archer AIM系统相比，叠对计量性能的关键指标一总的测量不确定性(TMU)降低了50％，

其他文献

浅谈农村安全用电管理措施

随着我国农村经济的不断发展,人们生活水平的不断提高,对电力的需求也随之增加。而农村安全用电管理工作已经明显跟不上时代的步伐,如何加强农村安全用电管理工作显得尤为重

期刊

农电安全管理措施

An Effective Management of Personal Paper Outcome Using Open Service

期刊

有效管理开放式论文服务研究人员应用程序接口API搜索Open R＆D research outcome research performan

西门子参展Nepcon上海2008

在2008 Nepcon上海展会上，西门子（西馆IE02号展台）推出其最新的SIPLACE生产理念和解决方案，更进一步巩固作为行业技术领先厂商的地位。西门子也是第一家为整个SMT行业做出理性的

期刊

西门子上海SIPLACESMT行业生产理念行业技术

The Spherically-Symmetric Pressure Free Collapse of the White-Black Hole

期刊

球对称黑洞折叠无压向量模型引力场引力质量模型预测Pressure free collapse white-black hole the ve

Exploring ERP Adoption Cost Factors

期刊

ERP系统成本因素企业资源规划中小型企业间接费用成本管理利益相关者ERP项目ERP （enterprise resource planning）

谈中考英语选词填空的解题技巧

白2008年以来，河南中考英语出现了一种新题型——选词填空。选词填空也被称为综合填空，它是测试学生对整篇义章的理解能力以及对词汇、语法、习惯用语等的掌握情况的一种形式。

期刊

中考英语解题技巧填空选词理解能力习惯用语教学经验训练技巧

Methodological Approaches to Development and Implementation of Multi-agents Investment DSS Using JAD

期刊

智能决策支持系统JADE投资管理多代理平台开发移动AGENT多Agent系统Decision support system intellige

完全印刷技术用于高密度FPC

DKN研究所，是一家位于麻萨诸塞州的印制电路技术公司，其联合了NY工业公司和一家日本的挠性基板制造企业，成功地研发了一种完全采用印刷技术生产高密度挠性板的生产工艺。过去几

期刊

印刷技术FPC高密度印制电路技术有机电子材料生产工艺麻萨诸塞州大批量生产

浅议学生不良品德的矫正

我国目前有5亿多青少年，在社会的关注、家长的呵护和学校的教育下，他们正在积极、健康地成长，令人感到欣慰。但是，由于社会、学校、家庭、学生自身等因素，部分青少年在思想品德上存在一些不良倾向，必须引起全社会特别是教育工作者的高度重视，及时探究其成因并采取切实可行的对策，努力消除影响青少年发展的各种不利因素，促进青少年的健康成长。具有不良品德倾向的学生并不是生性恶劣、不可救药的，他们完全可以克服自己的缺

期刊

青少年发展教育工作者思想道德品质人生价值风不正精神生活精神空虚自我教育榜样作用思想教育

混气电火花加工机理的分析及验证

介绍混气电火花加工原理及介质混入气泡的作用,详细分析了混气电火花加工机理,并进行了实验论证.

期刊

混气电火花加工机理气泡煤油介电系数electrospark processing principle verification

KLA-TENCOR将光刻叠对控制扩展到65nm节点以下

与本文相关的学术论文