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高分辨X射线双晶衍射技术在半导体薄膜材料研究中的应用
高分辨X射线双晶衍射技术在半导体薄膜材料研究中的应用
来源 :物理 | 被引量 : 0次 | 上传用户:turobc
【摘 要】
:
本文介绍了X射线双晶衍射技术的原理和对半导体外延膜的检测;对普遍关心的衬底与外延膜的 点阵失配、膜厚和成分及其变化的测定、衬底和外延膜完美性的检测以及超晶格结构和非
【作 者】
:
麦振洪
【机 构】
:
中国科学院物理研究所北京100080
【出 处】
:
物理
【发表日期】
:
1992年3期
【关键词】
:
半导体
薄膜
X射线
双晶衍射
【基金项目】
:
国家自然科学基金资助项目
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本文介绍了X射线双晶衍射技术的原理和对半导体外延膜的检测;对普遍关心的衬底与外延膜的 点阵失配、膜厚和成分及其变化的测定、衬底和外延膜完美性的检测以及超晶格结构和非常薄的外延膜 的评价等作了扼要的综述.
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